Sievers Boron Ultra超纯水在线硼分析仪

Sievers Boron Ultra在线超纯水硼分析仪能对超纯水中硼浓度进行连续、无人值守的在线监测，灵敏度高达万亿分之一（ppt），每小时提供20个数据点。该仪器符合初级和抛光环路规范，有助于优化离子交换树脂再生并控制二氧化硅和硼污染。其特点包括最少的维护需求和丰富的输出套件，支持国际器件和系统路线图（IRDS）设定的50 ppt硼限值，适用于半导体和微电子行业的超纯水污染控制和合规性。

对硼进行连续在线监测，灵敏度高达万亿分之一 (ppt)

随着半导体芯片变得越来越小、越来越复杂，对高质量超纯水（UPW）的需求也越来越高。即使是极其轻微的污染也会导致严重的缺陷，因此，在微电子制造过程中及早发现杂质至关重要。

有何风险？产品产量、下游工艺和不必要的成本。

Sievers Boron Ultra在线超纯水硼分析仪可对超纯水工艺中的硼浓度进行连续、无人值守的在线监测，灵敏度高达万亿分之一（ppt）水平。这有助于符合初级和抛光环路规范，并使制造商能够优化离子交换 (IX) 树脂床再生的时间。硼监测是最积极主动的IX过程控制策略，效果远远优于二氧化硅或离子污染监测。

优化在线性能和流程

Sievers Boron Ultra在线超纯水硼分析仪可显著降低运营费用，保持超纯水系统的质量。

Boron Ultra可在二氧化硅泄漏前检测到硼含量的增加，是防止胶体和离子二氧化硅渗漏到超纯水中的关键工具。它可以用来预测混合床IX树脂耗尽，优化电去离子（EDI）性能，并控制初级和抛光环路的污染水平。

Boron Ultra支持国际器件和系统路线图（IRDS）为半导体超纯水设定的50 ppt硼限值，支持硼和二氧化硅污染控制。

Sievers Boron Ultra在线超纯水硼分析仪是与半导体制造商合作设计的，旨在满足设备管理人员、超纯水系统所有者和超纯水工艺控制工程师的需求。硼监测是最为主动的离子交换过程控制策略，远远优于二氧化硅或离子污染监测。

万亿分之一 (ppt) 灵敏度

每小时20个数据点

符合初级和抛光环路规范

优化离子交换树脂再生

二氧化硅和硼污染控制

Boron Ultra的特点与优势

对硼进行连续在线监测，灵敏度高达万亿分之一 (ppt)

每小时20个数据点

符合初级和抛光环路规范

符合UKCA和CE标志的所有要求

多流路选项 - 提供单流路和双流路

现代、直观的图形用户界面，配备多色LED背光10.1英寸触摸屏显示器

丰富的输出套件 - 两个独立的4-20 mA模拟输出；两个报警输出；两个独立的二进制输出；两个USB 2.0端口；一个千兆以太网端口

最少的维护与耗材需求

应用 - 半导体和微电子超纯工艺 水 / 超纯水

污染控制

合规性

树脂再生的优化

过程控制